攀登勇者，志在巔峰

上海2024年8月2日 /美通社/ -- 中微半導體設備（上海）股份有限公司（以下簡稱"中微公司"，上交所股票代碼：688012）今日迎來成立20周年紀念日，并于臨港產業化基地隆重舉行"20周年盛會華章暨臨港基地落成慶典"。上海市委常委、臨港新片區黨工委書記、管委會主任陳金山等各級相關政府領導、行業合作伙伴、股東代表等約800人出席活動，共同見證了這一具有深遠意義的重要時刻。臨港產業化基地的正式投入使用，為中微公司風華正茂二十載的發展歷程再添輝煌一筆，為未來的加速發展注入新的活力和動力, 也為不斷攀登巔峰的征程開啟了新篇章。

慶典活動上，政府領導代表、中微公司創始人、董事長兼總經理尹志堯博士攜公司初創團隊成員共同按下啟動裝置，宣布臨港產業化基地正式啟用。臨港產業化基地占地約157畝、總建筑面積約18萬平方米，配備行業領先的實驗室、業界高標準的潔凈室、先進的生產車間及智能化立體倉庫等設施，可實現生產全程數字化、智能化管理，從而為公司進一步強化生產能力、研發能力和科技創新水平提供了有力支撐。

"屹立在世界的東方，迎著初升的太陽，攀登勇者的夢想，志在巔峰的殿堂……"慶典活動在為中微公司20周年特別創作的《中微之歌》中拉開序幕。"芯片越做越小，我們越戰越強"，這首《中微之歌》由尹志堯博士親自擔任制作人，著名作曲家安棟教授作曲，金牌作詞人甘世佳作詞，旋律慷慨激昂，鏗鏘有力，不僅承載著中微人"攀登勇者，志在巔峰"的理想和追求，也唱出了所有科創人的心聲和夢想。

在慶典上，中微公司創始人、董事長兼總經理尹志堯博士發表講話，他表示："20年前，我們從一張白紙，籌劃實現高端芯片設備的宏偉夢想。我們一次次沖破險阻而立于不敗之地，這一切都源自我們‘攀登勇者，志在巔峰'的雄心壯志和‘自強不息，厚德載物'的團隊奮斗精神！這一切都來源于我們所認同的和我們所遵循的‘四個十大'，這包括：產品開發的十大原則，戰略銷售的十大準則，營運管理的十大章法和精神文化的十大作風。今天，我們的心中充滿了感激。我們所從事的半導體微觀加工設備的產業，是數碼產業基石，我們選擇的是打造‘國之重器'這條艱難的道路。中微公司上下一心，用技術的創新，產品的差異化和知識產權的保護，攻克了一個又一個的技術難關，用優質過硬的產品獲得了市場認可，用高效完善的服務贏得了客戶信賴?；厥走^往的二十年，我們實現了從一到十的進展。展望下一個二十年，我們要實現十到一百的跨越！"

慶典儀式結束后，與會嘉賓們參觀了臨港產業化基地的多媒體展廳、研發與生產潔凈室、智能倉儲等生產區域以及員工宿舍、泳池、健身中心等生活區域，并對基地內的各種軟硬件設施表示了高度贊賞。臨港產業化基地采用先進廠務管理系統，配備智能化立體倉庫，實現了對制造資源跟蹤、生產過程監控。智能制造信息化平臺的搭建，讓中微公司大幅提高了生產質量、生產效率，降低了生產成本，為保證全球客戶供應打下堅實基礎。臨港產業化基地踐行綠色發展理念，致力打造綠色工廠，并通過不斷探索實踐，積極應對氣候變化，助力公司2035年實現自身碳中和的目標。

砥礪奮進，追求卓越

回顧中微公司二十年發展歷程，從2004年一張白紙開始的初創公司，成長為2019年首批科創板上市企業；從當初一支僅有15人的創業團隊，逐漸成長為如今全球員工超過兩千人的規模；從張江高科技園區內一間不起眼的辦公室，逐步發展為廠房和辦公樓面積即將達到45萬平方米的規模；從起步階段在技術領域不斷探索嘗試，到擁有兩千余項授權專利、技術能力；從2007年首臺刻蝕設備、薄膜設備研制成功并運往國內客戶，到2024年公司累計已有超5000個反應臺在國內外130多條生產線實現量產和大規模重復性銷售，中微公司在二十年堅韌不拔的發展過程中，持續追求技術創新和卓越運營，深刻詮釋了"攀登勇者，志在巔峰"的中微精神。

二十年來，中微公司在不斷攀登高峰的路上成果頗豐。公司在科學技術、客戶滿意度、知識產權、質量認證等領域獲得眾多贊譽，累計榮獲百余項知名獎項。在美國TechInsights全球客戶滿意度調查中，中微公司連續多年排名位居前列。2023年，公司榮獲"上海市科技進步一等獎"，并還多次入選福布斯中國最具創新力企業50強榜單。公司高度重視技術創新與知識產權保護，在產品開發過程中始終堅持"為技術的創新、設備的差異化和IP保護而開發"的企業文化。截至2024年6月，公司累計申請專利已達2648項，已獲授權專利1670項，其中發明專利占比高達85.87%。此外，公司兩次榮獲"中國專利金獎"，多次榮獲"中國專利優秀獎"、"上海市發明創造專利獎"和"上海市知識產權創新獎"等獎項。如今，中微公司已成為中國國內半導體設備的領先企業，也是國際半導體設備產業冉冉升起的一顆新星。

創新驅動，持續攀登

正是基于這樣的創新能力，中微公司在刻蝕設備、薄膜沉積設備、MOCVD設備等領域均取得了顯著成就。在刻蝕設備方面，憑借行業首創的刻蝕設備雙臺機技術，中微公司率先提出"皮米級"加工精度概念，其刻蝕精度已經達到100"皮米"以下水平，相當于頭發絲350萬分之一的精準度，并且產品具備刻蝕應用覆蓋豐富等優勢，能夠滿足90%以上的刻蝕應用需求，技術能力已覆蓋5納米及以下更先進水平。中微公司刻蝕設備市場占有率持續提升，不斷收到領先客戶的批量訂單。

中微公司持續加碼創新研發，在半導體薄膜沉積設備領域也不斷突破，推出了Preforma Uniflex^® CW、Preforma Uniflex^® HW、Preforma Uniflex^® AW等多款新產品以滿足市場需求，為公司業務多元化發展提供了強勁的增長動能。此外，公司新開發的硅和鍺硅外延EPI設備、晶圓邊緣Bevel刻蝕設備等多款新產品，也會在近期投入市場驗證。

在MOCVD設備方面，中微公司自推出第一代MOCVD設備PRISMO A7^®以來，不斷豐富產品線且快速升級迭代，目前在Mini LED等氮化鎵基設備領域，中微公司的市場占有率穩居前列，并持續開發用于氮化鎵、碳化硅等功率器件及Micro-LED器件制造的MOCVD設備。此外，中微公司還通過投資布局了第四大設備市場——光學檢測設備。

在集成電路產業飛速發展的浪潮中，中微公司以高端半導體設備為核心，堅持技術的創新、產品的差異化和知識產權的保護，不斷開發具有市場競爭力的設備；同時，中微公司將整合產業鏈上下游和相關資源作為另一發力點，積極考慮投資和并購，推動公司更快發展。預計未來五到十年，中微公司將通過自主研發以及攜手行業合作伙伴，覆蓋集成電路關鍵領域50%至60%的設備。

夯實根基，蓄勢發力

隨著臨港產業化基地的全面投入使用，中微公司的未來發展藍圖正徐徐展開。2023年7月，14萬平方米的中微公司南昌生產研發基地落成并投入使用；目前，位于滴水湖畔的中微臨港總部暨研發大樓也正在建設中，建成后占地面積約10萬平方米。未來，中微公司的生產和研發基地總面積將達到約45萬平方米，為今后的大發展夯實基礎。

此外，中微公司也在全球多點布局，匯聚研發勢能。目前，中微公司的客戶遍布中國大陸和中國臺灣、新加坡、韓國、德國、意大利等10多個國家和地區，在全球范圍內擁有2000多名員工，其中研發人員占比接近半數。

展望未來，中微公司將繼續秉持"攀登勇者，志在巔峰"的精神，踐行"四個十大"的企業文化，深入推進三維發展戰略，持續提升綜合競爭力，在技術進步、業務發展、業績增長、規范治理等方面不斷提高水平，實現高速、穩定、健康和安全的發展，為客戶和市場提供性能優越、高生產效率和高性價比的設備解決方案，為全球半導體行業的發展做出更大的貢獻。

關于中微半導體設備（上海）股份有限公司

中微半導體設備（上海）股份有限公司（證券簡稱：中微公司，證券代碼：688012，英文簡稱：AMEC）致力于為全球集成電路和LED芯片制造商提供領先的加工設備和工藝技術解決方案。中微公司開發的等離子體刻蝕設備和化學薄膜設備是制造各種微觀器件的關鍵設備，可加工微米級和納米級的各種器件。這些微觀器件是現代數碼產業的基礎，它們正在改變人類的生產方式和生活方式。中微公司的等離子體刻蝕設備已被廣泛應用于國際一線客戶先進工藝的眾多刻蝕應用，中微公司開發的用于LED和功率器件外延片生產的MOCVD設備已在客戶生產線上投入量產，目前已在全球氮化鎵基LED MOCVD設備市場占據優勢地位。