芬蘭埃斯波和東京2020年9月14日 /美通社 / -- 長瀨產業株式會社(NAGASE & CO. Group)旗下公司、硅氧烷基光學透明Nano-Imprint Lithography（納米壓印光刻）(NIL)材料領域的全球領導者Inkron對NIL材料和組件開發基礎設施進行了戰略投資。此次投資將顯著加快Inkron開發高性能光學材料的進程，這些材料是增強現實(AR)眼鏡、3D傳感器和其他衍射光學元件(DOE)關鍵部件所需的。通過此次投資，Inkron將大幅增強其能力，更好地為客戶提供定制光學NIL材料，同時交付時間快，性能也得到了提高。Inkron目前還可以為客戶提供組件原型開發和小批量生產服務。

圖標：https://kyodonewsprwire.jp/img/202009043950-O1-ac34Ag78

圖1. 使用EVG工具和Inkron的高折射率IOC樹脂在SCHOTT基底上壓印納米壓印衍射結構https://kyodonewsprwire.jp/prwfile/release/M105348/202009043950/_prw_PI2fl_ft6dgP0t.jpg

圖2. EVG 7200 SmartNIL (R) UV納米壓印光刻系統https://kyodonewsprwire.jp/prwfile/release/M105348/202009043950/_prw_PI3fl_81TjkWTR.jpg

此次投資的最重要部分是從EV Group （簡稱EVG）購買EVG (R) 7200 UV NIL自動化系統并對其進行安裝。EVG 7200系統利用EVG的創新SmartNIL (R)技術和材料專業知識，支持微納米和納米級結構的大規模生產，同時實現了無與倫比的質量。該系統提供低作用力和共形壓印，快速高功率曝光及平整的壓印脫離，支持無與倫比的生產量和低擁有成本。采用SmartNIL技術的EVG 7200系統非常適合批量生產用于AR和虛擬現實(VR)等應用的新一代光子器件（包括波導和DOE）。除了這些功能之外，這款已交付給Inkron的工具還提供高強度紫外線站和加熱卡盤，并支持將軟UV-NIL材料用于微透鏡成型應用。

Inkron提供NIL加工材料，折射率范圍廣，甚至可達到2.0。NIL材料與涂層、縫隙填充和平面化涂層形成互補，折射率低至1.1。這些材料平臺與EVG 7200系統相結合，為新型光學組件的開發提供了理想的基礎設施，在加快交付時間的同時，優化了特殊器件的樹脂和工藝。除了NIL設備之外，Inkron還對光學結構制造和測試設備進行重大投資，包括設備性能和可靠性測試，并將繼續加大在這方面的投資。該公司成立了為Inkron NIL生態系統提供支持的專業團隊，該團隊由副總裁Janne Kylma博士領導，成員包括材料科學家、光刻工藝工程師和光子學專家。Inkron運營副總裁Jukka Perento則負責指導商業NIL活動。

EV Group企業技術開發和IP總監Markus Wimplinger表示：“EV Group通過NILPhotonics能力中心與Inkron等來自整個光子學供應鏈的公司合作，利用我們的NIL技術和專業知識，加快新設備和應用的開發。通過與Inkron合作，我們有機會支持他們開發對生產新一代光學器件至關重要的先進光阻劑。”

Jukka Perento稱：“我們很高興能加快開發我們經過優化和創新的新型光學樹脂技術。新款EVG 7200系統在這項戰略舉措中發揮著至關重要的作用。這些新能力將幫助我們解決客戶的關鍵性能問題，并幫助他們取得成功。我們的納米壓印高折射率材料和匹配的縫隙填充涂料，與EVG的NIL系統相結合，為光學制造商提供他們所需的關鍵晶圓級解決方案，幫助他們快速擴大其最新研發成果的生產規模。”

Inkron網站：
http://inkron.com/

EV Group網站：
https://www.evgroup.com/company/about-evg/