加快推進納米壓印光刻技術在光電制造領域的應用

兩家市場領導者開展推廣和技術合作，通過結合各自優勢，提供納米壓印光刻技術開發工具包，并實現大批量生產

奧地利圣弗洛里安和東京2022年9月20日 /美通社/ -- 全球首屈一指的光掩模供應商Toppan Photomask Co. Ltd.與為MEMS、納米技術和半導體市場提供晶圓鍵合及光刻設備的領先供應商EV Group（簡稱EVG）今天宣布，兩家公司已達成協議，共同推廣賦能光電產業的大批量制造(HVM)工藝—納米壓印光刻技術(NIL)。

此次合作結合NIL系統的領先供應商和開創者與半導體市場的光掩模領先供應商的優勢，旨在確立NIL為光電制造的行業標準生產工藝，并加速其在HVM中實施，以支持各種應用。這些應用包括增強/混合/虛擬現實耳機、智能手機、汽車傳感器和醫療成像系統。

作為此次非排他性合作的一部分，EVG和Toppan Photomask將結合各自的知識、專長和服務，利用Toppan Photomask提供的主模板和EVG提供的設備及工藝開發服務，提供NIL開發工具包，以進一步推廣NIL技術并提高將該技術應用于工業生產的可能性。EVG還將在其位于奧地利總部的EVG NILPhotonics®能力中心，面向感興趣的公司提供NIL技術和產品演示。此外，對于有意在生產過程中使用NIL技術的企業，兩家公司都將對方指定為首選推薦的供應鏈合作伙伴。

Toppan Photomask Co. Ltd.首席技術官全燦旭(Chan-Uk Jeon)表示：“Toppan Photomask非常高興能與EVG合作。EVG的NIL工具和加工能力是世界一流的，將提高光電技術和其他將采用NIL技術的新技術成本效益。Toppan Photomask認為，兩家公司都具有顯著的優勢，在此推動下，NIL技術有著良好的發展前景，有望成為另一種成功的光刻解決方案。”

實現納米壓印光刻技術成為主流制造技術

在創建任意形狀的精細圖案（如超構透鏡）的未來應用方面，傳統的光刻技術已達到了極限。NIL是一種公認且具有成本效益的工藝，可在復雜的結構上生成納米級分辨率的圖案，因此是這些應用的可行替代方案。NIL可以非常有效地大面積復制這些復雜的結構，設計限制較少，且工藝流程非常精簡，因此非常適用于原型設計和HVM。

20多年來，EVG一直是NIL技術領域的開創者，通過與光學材料（如粘合劑和抗蝕劑）、基板材料和印章生產供應商，以及光學元件和設備制造商等整個NIL供應鏈中的企業合作，為打造更加廣泛的NIL生態系統做出貢獻。EVG和Toppan Photomask分別是光刻和光掩模制造領域的知名行業領導者，兩家公司通過合作，旨將NIL作為光電行業的主流HVM技術加以推廣。

EV Group企業技術開發和知識產權總監Markus Wimplinger稱：“我們很高興與Toppan Photomask合作，將納米壓印光刻技術引入主流制造應用。作為以最高質量標準著稱的領先半導體光掩模供應商，Toppan Photomask在使用滿足全球最嚴格生產要求的標準化生產方法方面擁有豐富的經驗。此次是納米壓印工藝設備和服務提供商與納米壓印母版生產商之間的首次合作，對行業來說是一次巨大的勝利，我們將通過合作，幫助我們的客戶迅速擴大NIL應用，使之成為先進光學設備和元件的批量生產技術，幫助他們將新的‘虛擬’構思變為現實。”

即將舉行的納米壓印行業活動

兩家公司的專家將參加9月19日至23日在比利時魯汶Gasthuisberg學術園區舉行的Micro and Nano Engineering (MNE) Eurosensors 2022 Conference大會，并在會上對此次合作進行討論。與會者可參觀EVG的S8號展位，以獲取更多信息。

此外，EVG的Christine Thanner將出席于10月5日在日本富山舉行的納米壓印和納米印刷技術(NNT)會議，并將在全體大會上發表題為 “納米壓印—從小眾到大批量生產”的特邀演講，屆時她將闡述NIL母版制造技術、復制設備和工藝的匹配組合的重要性。

NILPhotonics能力中心：靈活的合作模式

EVG的NILPhotonics能力中心為整個NIL供應鏈中的客戶和合作伙伴提供開放的創新孵化器，讓他們可以通過合作，縮短創新光電設備和應用的開發周期及上市時間。該中心高度靈活，可滿足客戶的不同需求，同時確保為開發過程中的每個環節提供最高水平的IP保護。潔凈室旨在滿足最嚴格的客戶要求，并實現虛擬生產線概念，即將晶圓重新引入客戶的晶圓廠，以對其進行進一步加工。詳情請訪問：https://www.evgroup.com/products/process-services/nilphotonics-competence-center/。