（美通社頭條）8月12日，富士膠片（中國(guó)）投資有限公司在北京舉行FUJIFILM LTO Ultrium 10（LTO 10）數(shù)據(jù)流磁帶新品發(fā)布會(huì)，正式介紹LTO新一代海量數(shù)據(jù)存儲(chǔ)解決方案。

LTO 10是富士膠片“LTO Ultrium”系列中首個(gè)采用自主研發(fā)的“精細(xì)復(fù)合型磁性顆粒”技術(shù)的產(chǎn)品。該技術(shù)融合新一代磁性材料“鍶鐵氧體(SrFe)磁粉”與現(xiàn)有高容量數(shù)據(jù)存儲(chǔ)磁帶的“鋇鐵氧體(BaFe)磁粉”，通過進(jìn)一步減小磁性材料粒徑并優(yōu)化磁性能，實(shí)現(xiàn)了LTO 10單盒最大容量75TB（未壓縮時(shí)30TB），是上一代富士膠片產(chǎn)品LTO 9的1.7倍。同時(shí)，LTO 10最大傳輸速率為1,000MB/秒（未壓縮時(shí)400MB/秒），滿足高速數(shù)據(jù)的需要。

LTO 10能夠低成本且安全地存儲(chǔ)數(shù)據(jù)。磁帶與硬盤驅(qū)動(dòng)器(HDD)相比，初期導(dǎo)入成本更低。此外，LTO 10采用氣隙間隔技術(shù)，數(shù)據(jù)可在與網(wǎng)絡(luò)隔離狀態(tài)下存儲(chǔ)，顯著降低因系統(tǒng)故障、勒索病毒或黑客攻擊導(dǎo)致數(shù)據(jù)丟失或損毀的風(fēng)險(xiǎn)。