這項突破性技術使生命科學和醫療保健領域實現可擴展、高精度的生物傳感器應用成為可能

比利時魯汶2025年12月10日 /美通社/ --

• Imec首次成功在300毫米晶圓上采用EUV光刻技術制造晶圓級固態納米孔。 這項創新將納米孔技術從實驗室規模的概念轉化為可擴展的平臺，適用于生物傳感、基因組學和蛋白質組學領域。
• 納米孔技術被譽為基因組學和蛋白質組學的變革者，但迄今為止，固態納米孔因存在變異性和集成難題，始終未能實現大規模生產。 Imec的突破為高通量、兼容CMOS的生物傳感器陣列鋪平了道路，有望推動個性化醫療、快速診斷和分子數據存儲的開發。
• 其采用EUV光刻技術在300毫米晶圓上實現了晶圓級制造，制備出尺寸小至約10納米的納米孔，且在整個晶圓上具有高度均勻性。 該制造工藝有潛力實現小于5納米孔徑，隨著工藝集成技術的進一步改進，有望取得更大突破。 電氣和生物分子易位表征顯示其信噪比高達6.2。
• "Imec具有實現這一飛躍的獨特優勢。 我們可將傳統上用于存儲和邏輯領域的EUV光刻技術應用于生命科學領域。 利用我們的光刻基礎設施，我們已證明能以分子傳感所需的精度大規模制造固態納米孔，"imec的第一作者及研發項目經理Ashesh Ray Chaudhuri表示， "這為醫療保健及其他領域的高通量生物傳感器陣列創造了可能。"

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完整新聞稿：https://www.imec-int.com/en/press/imec-demonstrates-first-wafer-scale-fabrication-solid-state-nanopores-using-euv-lithography